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GS200在低維半導(dǎo)體材料基礎(chǔ)研究中的應(yīng)用?

文章出處:神州新元 人氣:0發(fā)表時間:2024-07-31

 什么是低維半導(dǎo)體材料

 

低維半導(dǎo)體材料是指維數(shù)低于三維的半導(dǎo)體材料,包括量子點材料(零維材料)、量子線材料(一維材料)和量子阱材料(二維材料)。其中碳納米管是典型的一維材料、石墨烯是典型的二維材料,研究這些材料的物理特性,如電子遷移率,霍爾效應(yīng),熱導(dǎo)率,電導(dǎo)率,有效質(zhì)量等等,是目前低維半導(dǎo)體物理主要的研究領(lǐng)域。

 

 

 低維半導(dǎo)體材料研究的意義

 

半導(dǎo)體材料的發(fā)展目前共經(jīng)歷了三代,**代材料是硅和鍺,第二代材料是砷化鎵(GaAs)和磷化銦(InP),第三代半導(dǎo)體材料是以碳化硅和氮化鎵為代表的寬帶隙半導(dǎo)體材料。在不同的領(lǐng)域使用的半導(dǎo)體材料不同,各種半導(dǎo)體材料形成互補的關(guān)系。

隨著器件小型化的不斷發(fā)展和集成度的不斷提高,傳統(tǒng)的硅基半導(dǎo)體器件已經(jīng)逼近了其極限尺寸,趨向于納米級,到達這一尺寸后,一系列來自器件工作原理和工藝技術(shù)本身的物理限制以及制造成本大幅度提高等將成為難以克服的問題。與此同時,隨著實驗制備工藝和合成技術(shù)的發(fā)展,越來越多的納米材料和納米結(jié)構(gòu)不斷涌現(xiàn)出來,半導(dǎo)體材料有從三維體材料向低維材料方向發(fā)展的趨勢。

目前,基于GaAs和InP基的低維材料已經(jīng)發(fā)展得很成熟,而以氮化鎵、碳化硅、氧化鋅等為代表的第三代半導(dǎo)體材料也發(fā)展很快,這些材料都是寬帶隙半導(dǎo)體材料。它具有禁帶寬度大、擊穿電壓高、熱導(dǎo)率大、電子飽和漂移速度快、介電常數(shù)小等特征,能夠在很多領(lǐng)域得到廣泛應(yīng)用。半導(dǎo)體納米科學(xué)技術(shù)的應(yīng)用,將從原子、分子、納米尺度水平上,控制和制造功能強大、性能優(yōu)越的人工微結(jié)構(gòu)材料和基于它們的器件、電器與電路,使人類進入變幻莫測的量子世界,從而引發(fā)新的技術(shù)革命。

 

 低維半導(dǎo)體材料研究中柵極電壓的重要性

 

首先,我們來看一下傳統(tǒng)的硅基半導(dǎo)體材料器件,典型的代表是BJT(雙極結(jié)型晶體三極管)、MOSFET(絕緣柵型場效應(yīng)管)以及IGBT(絕緣柵雙極型晶體管),這些器件目前廣泛應(yīng)用于日常生活中的家用電源、工業(yè)生產(chǎn)、電氣化交通、新能源技術(shù)等方面。

MOSFET的基本原理圖

上圖中,源極和漏極一定是跟同種摻雜的半導(dǎo)體相連的,圖中是N型。而柵極是通過一個由氧化物構(gòu)成的絕緣層(主要是SiO2)與P型半導(dǎo)體間接相連。P型半導(dǎo)體把源極和漏極隔絕開來,兩者的多數(shù)載流子是不同的,因此在沒有電壓的情況下,源極和漏極之間是沒有電流通過的。這是MOSFET的截止?fàn)顟B(tài)。

對于MOSFET來說,氧化物上面的電極相當(dāng)于電容器的上極板,P型半導(dǎo)體靠近氧化物的部分相對于下極板,而氧化物就相當(dāng)于兩個極板之間的電介質(zhì)。當(dāng)正電壓施加于柵極時,p型氧化物中也會感生出電子。這些電子會集中到靠近氧化物的區(qū)域內(nèi),看起來像一個溝道一樣,宏觀上,這部分p型半導(dǎo)體變成了n型半導(dǎo)體。這樣源極和柵極中紅色區(qū)域n型半導(dǎo)體中的大量電子就可以通過這個溝道導(dǎo)通了,這是MOSFET的導(dǎo)通狀態(tài)。

從能級的角度來說,漏極的電子想到源極去,就需要翻過一座很高的山:柵極的p型半導(dǎo)體。只有能量特別高的電子才能成功翻過這座山。而當(dāng)有外界電壓加到柵極時,相當(dāng)于人為地把這座山給削平了,這樣大量能量一般的電子,也能成功翻越了。這就是MOSFET的截止和導(dǎo)通。

低維半導(dǎo)體材料研究中重要的低溫電子輸運就是類似這樣一個過程——使用新型低維材料為基底,施加?xùn)艠O電壓,研究磁場對于電子輸運的影響,從而改善新型半導(dǎo)體材料性能,提高電子輸運效率。此過程中需要將電子態(tài)控制在某個狀態(tài),并且試驗時間可能長達一兩周,器件對電壓極其敏感,所以對柵極電壓的穩(wěn)定性要求極高,如果柵極電壓不穩(wěn)定,出現(xiàn)突變的情況下,可能會導(dǎo)致器件擊穿,從而損毀器件。

GS200源表
 
在低維半導(dǎo)體材料器件研發(fā)中能夠提供什么?

GS200作為橫河源表系列中精度和穩(wěn)定性高的源表,可以為低維物理電子輸運研究提供可靠的柵極電壓??煽啃灾饕w現(xiàn)在兩方面:

(1):高穩(wěn)定性:即長時間連續(xù)測量時,精度的變化情況。GS200可提供±設(shè)置的0.001%+20uV(10V量程、1天)的高穩(wěn)定電壓源以及±設(shè)置的0.004%+30uA(100mA量程、1天)的高穩(wěn)定電流源。下圖為GS200運行一小時的穩(wěn)定性示意圖。

(2):低噪聲:GS200可提供100uVp-p(10V量程,DC~10kHz)以及3uAp-p(100mA量程,DC~10kHz)的低噪聲,確保器件不會被噪聲或者量程切換時候產(chǎn)品的脈沖噪聲所影響。下圖為GS200噪聲的測試圖。

如果您有高精度、高穩(wěn)定性、低噪聲的源表需求,歡迎與我們聯(lián)系!


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